關(guān)于2021年滁州市專利申請流程包括幾個階段？申報條件是怎樣的？對于企業(yè)或者個人來說申請年滁州市專利都需要經(jīng)過受理階段、 初步審查階段、公布階段、 實質(zhì)審查階段、授權(quán)階段， 那么具體是怎樣操作申請的？需要需要代寫的可以免費聯(lián)系 以下該政策專人指導(dǎo) 為您在線解答指導(dǎo)！

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滁州市專利申請流程

受理階段

專利局收到專利申請后進行審查，如果符合受理條件，專利局將確定申請日，給予申請?zhí)?，并且核實過文件清單后，發(fā)出受理通知書，通知申請人。如果申請文件未打字、印刷或字跡不清、有涂改的；或者附圖及圖片未用繪圖工具和黑色墨水繪制、照片模糊不清有涂改的；或者申請文件不齊備的；或者請求書中缺申請人姓名或名稱及地址不詳?shù)?；或?qū)＠暾堫悇e不明確或無法確定的，以及外國單位和個人未經(jīng)涉外專利代理機構(gòu)直接寄來的專利申請不予受理。

初步審查階段

經(jīng)受理后的專利申請按照規(guī)定繳納申請費的，自動進入初審階段。初審前發(fā)明專利申請首先要進行保密審查，需要保密的，按保密程序處理。

在初審時要對申請是否存在明顯缺陷進行審查，主要包括審查內(nèi)容是否屬于《專利法》中不授予專利權(quán)的范圍，是否明顯缺乏技術(shù)內(nèi)容不能構(gòu)成技術(shù)方案，是否缺乏單一性，申請文件是否齊備及格式是否符合要求。若是外國申請人還要進行資格審查及申請手續(xù)審查。不合格的，專利局將通知申請人在規(guī)定的期限內(nèi)補正或陳述意見，逾期不答復(fù)的，申請將被視為撤回。經(jīng)答復(fù)仍未消除缺陷的，予以駁回。發(fā)明專利申請初審合格的，將發(fā)給初審合格通知書。對實用新型和外觀設(shè)計專利申請，除進行上述審查外，還要審查是否明顯與已有專利相同，不是一個新的技術(shù)方案或者新的設(shè)計，經(jīng)初審未發(fā)現(xiàn)駁回理由的。將直接進入授權(quán)秩序。

公布階段

發(fā)明專利申請從發(fā)出初審合格通知書起進入公布階段，如果申請人沒有提出提前公開的請求，要等到申請日起滿15個月才進入公開準(zhǔn)備程序。如果申請人請求提前公開的，則申請立即進入公開準(zhǔn)備程序。經(jīng)過格式復(fù)核、編輯校對、計算機處理、排版印刷，大約3個月后在專利公報上公布其說明書摘要并出版說明書單行本。申請公布以后，申請人就獲得了臨時保護的權(quán)利。

實質(zhì)審查階段

發(fā)明專利申請公布以后，如果申請人已經(jīng)提出實質(zhì)審查請求并已生效的，申請人進入實審程序。如果發(fā)明專利申請自申請日起滿三年還未提出實審請求，或者實審請求未生效的，該申請即被視為撤回。

在實審期間將對專利申請是否具有新穎性、創(chuàng)造性、實用性以及專利法規(guī)定的其它實質(zhì)性條件進行全面審查。經(jīng)審查認(rèn)為不符合授權(quán)條件的或者存在各種缺陷的，將通知申請人在規(guī)定的時間內(nèi)陳述意見或進行修改，逾期不答復(fù)的，申請被視為撤回，經(jīng)多次答復(fù)申請仍不符合要求的，予以駁回。

實質(zhì)審查中未發(fā)現(xiàn)駁回理由的，將按規(guī)定進入授權(quán)程序。

授權(quán)階段

專利的審批流程

實用新型和外觀設(shè)計專利申請經(jīng)初步審查以及發(fā)明專利申請經(jīng)實質(zhì)審查未發(fā)現(xiàn)駁回理由的，由審查員作出授權(quán)通知，申請進入授權(quán)登記準(zhǔn)備，經(jīng)對授權(quán)文本的法律效力和完整性進行復(fù)核，對專利申請的著錄項目進行校對、修改后，專利局發(fā)出授權(quán)通知書和辦理登記手續(xù)通知書，申請人接到通知書后應(yīng)當(dāng)在2個月之內(nèi)按照通知的要求辦理登記手續(xù)并繳納規(guī)定的費用，按期辦理登記手續(xù)的，專利局將授予專利權(quán)，頒發(fā)專利證書，在專利登記簿上記錄，并在2個月后于專利公報上公告，未按規(guī)定辦理登記手續(xù)的，視為放棄取得專利權(quán)的權(quán)利。

滁州市專利申請條件

授予專利權(quán)的發(fā)明和實用新型，應(yīng)當(dāng)具備新穎性、創(chuàng)造性和實用性。

新穎性

新穎性，是指該發(fā)明或者實用新型不屬于現(xiàn)有技術(shù)；也沒有任何單位或者個人就同樣的發(fā)明或者實用新型在申請日以前向國務(wù)院專利行政部門提出過申請，并記載在申請日以后公布的專利申請文件或者公告的專利文件中。

創(chuàng)造性

創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該發(fā)明具有突出的實質(zhì)性特點和顯著的進步，該實用新型具有實質(zhì)性特點和進步。

實用性

判斷要滿足下列條件：

專利法規(guī)定：“實用性，是指該發(fā)明或者實用新型能夠制造或者使用，并且能夠產(chǎn)生積極效果。”

能夠制造或者使用，是指發(fā)明創(chuàng)造能夠在工農(nóng)業(yè)及其它行業(yè)的生產(chǎn)中大量制造，并且應(yīng)用在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)上和人民生活中，同時產(chǎn)生積極效果。這里必須指出的是，專利法并不要求其發(fā)明或者實用新型在申請專利之前已經(jīng)經(jīng)過生產(chǎn)實踐，而是分析和推斷在工農(nóng)業(yè)及其他行業(yè)的生產(chǎn)中可以實現(xiàn)。

非顯而易見性

非顯而易見的：專利發(fā)明必須明顯不同于習(xí)知技藝（prior art）。所以，獲得專利的發(fā)明必須是在既有之技術(shù)或知識上有顯著的進步，而不能只是已知技術(shù)或知識的顯而易見的改良。這樣的規(guī)定是要避免發(fā)明人只針對既有產(chǎn)品做小部份的修改就提出專利申請。若運用習(xí)知技藝或為熟習(xí)該類技術(shù)都能輕易完成，無論是否增加功效，均不符合專利的進步性精神;而在該專業(yè)或技術(shù)領(lǐng)域的人都想得到的構(gòu)想，就是顯而易見的（obviousness），是不能獲得專利權(quán)的。

適度揭露性

適度揭露（adequate disclosure）：為促進產(chǎn)業(yè)發(fā)展，國家賦予發(fā)明人獨占的利益，而發(fā)明人則需充分描述其發(fā)明的結(jié)構(gòu)與運用方式，以便利他人在取得專利權(quán)人同意或?qū)＠狡谥?，能夠?qū)嵤┐税l(fā)明，或是透過專利授權(quán)實現(xiàn)發(fā)明或者再利用再發(fā)明。如此，一個有價值的發(fā)明能對社會、國家發(fā)展有所貢獻。

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