淮南市部分集成電路設(shè)計企業(yè)對于申請布圖設(shè)計登記能為企業(yè)帶來多少好處不是很了解，也擔(dān)心技術(shù)會因此泄密，小編就集成電路布圖設(shè)計登記申請進(jìn)行介紹。

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根據(jù)布圖設(shè)計保護(hù)條例，布圖設(shè)計權(quán)利人享有的權(quán)利如下：

1. 對受保護(hù)的布圖設(shè)計的全部或者其中任何具有獨(dú)創(chuàng)性的部分進(jìn)行復(fù)制；

2. 將受保護(hù)的布圖設(shè)計、含有該布圖設(shè)計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業(yè)利用。

未經(jīng)權(quán)利人許可的以下行為構(gòu)成侵權(quán)：

1. 復(fù)制受保護(hù)的布圖設(shè)計的全部或者其中任何具有獨(dú)創(chuàng)性的部分的；

2. 為商業(yè)目的進(jìn)口、銷售或者以其他方式提供受保護(hù)的布圖設(shè)計、含有該布圖設(shè)計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。

布圖設(shè)計專有權(quán)的保護(hù)范圍不包括制造行為，而且比專利的壟斷性保護(hù)力度要小，但申請保護(hù)的門檻也相應(yīng)較低，只要具有獨(dú)創(chuàng)性，即該布圖設(shè)計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果，并且不是公認(rèn)的常規(guī)設(shè)計即可。

通過反向工程，獲取他人的技術(shù)秘密是合法的，但通過此途徑獲取已申請布圖設(shè)計保護(hù)的方案，則構(gòu)成侵權(quán)行為。因此在技術(shù)秘密難以有效保護(hù)的情況下，比如企業(yè)的內(nèi)部機(jī)制難以有效防止秘密外泄，或者技術(shù)方案容易被競爭對手通過反向工程獲取等，可考慮申請布圖設(shè)計登記進(jìn)行保護(hù)。

布圖設(shè)計所享有的權(quán)利，并不僅是將布圖設(shè)計作為整體進(jìn)行保護(hù)，對于設(shè)計中任何一個具有獨(dú)創(chuàng)性的部分也進(jìn)行保護(hù)，這樣，即使競爭對手對于非法獲取的整體方案進(jìn)行改動，只要有些設(shè)計模塊沒有相應(yīng)更改，比如一些不容易繞開的模塊，那么也構(gòu)成侵權(quán)。

在鉅泉光電訴上海雅創(chuàng)等侵害集成電路布圖設(shè)計專有權(quán)糾紛一案中，法院認(rèn)為布圖設(shè)計中的那些基本電路或者起輔助性功能的部分只要滿足獨(dú)創(chuàng)性以及非公認(rèn)的常規(guī)設(shè)計也應(yīng)受到保護(hù)。

布圖設(shè)計專有權(quán)的侵權(quán)行為成立的，權(quán)利人可要求侵權(quán)人立即停止侵權(quán)行為，并承擔(dān)賠償責(zé)任，包括權(quán)利人為制止侵權(quán)行為所支付的合理開支，比如律師費(fèi)、公證費(fèi)等，這在一定程度上有效地支持了權(quán)利人進(jìn)行維權(quán)。

布圖設(shè)計的保護(hù)期為10年，自布圖設(shè)計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起計算，以較前日期為準(zhǔn)。無論是否登記或者投入商業(yè)利用，布圖設(shè)計自創(chuàng)作完成之日起15年后，不再受保護(hù)。

我國對集成電路布圖設(shè)計保護(hù)實(shí)行登記保護(hù)的原則，保護(hù)的起始時間為布圖設(shè)計申請日，布圖設(shè)計的商業(yè)利用時間在先，并不意味著其布圖設(shè)計專有權(quán)權(quán)利應(yīng)優(yōu)先受到保護(hù)。并且，登記申請需在世界任何地方首次商業(yè)利用之日起２年內(nèi)提出。

企業(yè)關(guān)于申請布圖設(shè)計登記后可能泄密的擔(dān)憂是可以理解的。確實(shí)，布圖設(shè)計登記公告后，公眾可以查閱布圖設(shè)計的復(fù)制件或者圖樣，有觀點(diǎn)認(rèn)為 這是類似于專利制度的“公開換保護(hù)”的原則，盡管該觀點(diǎn)存在爭議。申請布圖設(shè)計登記時，申請者需要提供布圖設(shè)計的復(fù)制件或者圖樣，可選提供的是布圖設(shè)計的電子版，如果已投入商用，則樣品也需提供。但公眾只能查閱復(fù)制件或圖樣的紙件，并不能獲取電子版，以及樣品。

企業(yè)關(guān)于申請布圖設(shè)計可能泄密的擔(dān)憂可以通過在申請登記時申明有保密信息來解決，保密信息的比例可達(dá)到整個布圖設(shè)計的50%，保密信息部分不對公眾公開。需要注意的是申請保密信息要求在申請日前該布圖設(shè)計尚未投入商業(yè)利用。

申請布圖設(shè)計登記時，申請人可決定將設(shè)計方案的全部或者部分進(jìn)行申請登記，但需要特別關(guān)注的是，申請的布圖設(shè)計的圖樣、復(fù)制件需清晰，且相對完整，應(yīng)是至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置。

提交的布圖設(shè)計的復(fù)制件或者圖樣，應(yīng)當(dāng)至少放大到用該布圖設(shè)計生產(chǎn)的集成電路的20倍以上，其將作為后期維權(quán)時進(jìn)行對比的主要載體，申請時提交的樣品只是輔助，不能起到替代作用。

最后，企業(yè)可根據(jù)技術(shù)方案特點(diǎn)及競爭情況，確定申請專利保護(hù)，布圖設(shè)計保護(hù)，還是以技術(shù)秘密方式進(jìn)行保護(hù)。

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